PVD鍍膜應(yīng)用效果很好，使TiN涂層刀具很快得到普及性應(yīng)用，利用銅坩堝加熱融化被鍍金屬材料，利用鉭燈絲給工件加熱、除氣，利用電子槍增強離化率，PVD鍍膜不但可以得到厚度3~5μm的TiN涂層，而且其結(jié)合力、耐磨性均有不俗表現(xiàn)，甚至用打磨的方法都難以除去，或純金屬薄膜。

PVD鍍膜中PVD是英文”PhysicalVaporDeposition”的縮寫形式，意思是物理氣相沉積。較為成熟的PVD方法主要有多弧鍍與磁控濺射鍍兩種方式。多弧鍍設(shè)備結(jié)構(gòu)簡單，容易操作。它的離子蒸發(fā)源靠電焊機電源供電即可工作，其引弧的過程也與電焊類似，具體地說，在一定工藝氣壓下，引弧針與蒸發(fā)離子源短暫接觸，斷開，使氣體放電。

此外，PVD鍍膜涂層顏色較為穩(wěn)定，尤其是在做TiN涂層時，每一批次均容易得到相同穩(wěn)定的金黃色，令磁控濺射法望塵莫及。多弧鍍的不足之處是，在用傳統(tǒng)的DC電源做低溫涂層條件下，當(dāng)涂層厚度達(dá)到0.3μm時，沉積率與反射率接近，成膜變得非常困難。而且，薄膜表面開始變朦。